1、作为国内高新技术企业，在微电子化学品的研究开发与生产中处于行业领先位置。核心产品包括光刻胶、功能性材料等。新莱应材：
2、核心产品能应用于光刻胶设备中。客户群体包含光刻胶设备制造商。芯源微：
3、产品涵盖光刻工序涂胶显影设备和单片式湿法设备。亚威股份：
4、与关联方共同出资打造威迈芯材，完成对韩国WIMAS的收购。韩国WIMAS主要从事半导体化合物的生产开发与销售。华懋科技：
5、旗下持股公司徐州搏康为国内重点量产高端光刻胶的企业。在EUV光刻胶领域处于国际水平的上游层次。彤程新材：
6、旗下子公司北京科华微电子为国内唯一拥有荷兰曝光机的中外合资企业。在高档光刻胶自主研发及量产能力中属于国家高新技术企业。苏大维格：
7、作为领先的微纳结构生产供应商，已自主研发出光刻机设备。成立了微纳光学的研发平台，为客户提供不同的设计与服务。芯碁微装：
8、专业从事以微纳直写光刻为技术核心的直接成像设备及直写光刻设备的研发、制造、销售以及相应的维保服务。南大光电：
9、主要核心产品为ArF光刻胶产品。该产品不仅得到了客户的使用认证，还是国内第一只通过验证的国产ArF光刻胶产品。请注意，由于半导体光刻胶行业涉及众多企业和产品，且市场竞争激烈，排名可能会随着时间和市场变化而有所调整。因此，上述排名仅供参考，具体排名可能会因不同评价标准和时间节点而有所差异。
国内半导体生产线因光刻机断供的停产周期没有统一标准，会根据芯片制程、产能依赖度不同出现明显差异，部分先进制程可能在12个月内逐步停摆，成熟制程则更多面临良率下降、成本抬升而非直接停产。
1. 7nm先进制程：最长12个月逐步停摆
中芯南方的7nm月产能2万片晶圆，完全依赖ASML的2000i光刻机。如果荷兰政府拒签零部件进口许可，ASML将从2026年第一季度起断供备件，故障机台会在12个月内逐步停摆，届时大陆7nm量产能力会归零。
2. 14nm制程：受影响机台的停产周期约12个月
中芯北京、上海的12英寸厂合计月产能8万片晶圆，如果30%的机台停转，月产能损失2.5万片，相当于大陆14nm总产能的40%。这类受影响的机台停产周期受“缺件即停机”规则约束，约为12个月。
3. 28nm及成熟制程：无直接停产，但生产效率受明显冲击
目前28nm光刻机的升级套件断供，会导致芯片良率下降5%-7%、生产成本抬升10%以上，但不会直接导致生产线停产。2026年3月国内已实现28nm芯片大规模量产，一定程度缓解了该制程的停产危机。
根据2024年3月荷兰落地的光刻机出口新规，叫停了28nm到45nm成熟制程DUV光刻机对华出口，会冲击国内车企、家电、工业自动化、医疗监测仪器等相关半导体生产线，但并未直接导致生产线停产。